|
BBO研究会
＊BBO研究所＊
〒351-0007
埼玉県朝霞市岡
1-17-18
ホープデンタル
クリニック内
TEL 048-463-9586
TEL 048-462-4183
FAX 048-466-1638 |
|
工キシマレーザーアブレーションによるHAp薄膜の形成
The fonlnation of HydroxyaPatite thin filnn deposited
by laser ablation
|
1.緒言
暮形外科分野や歯科分野で利用されているインプラントには耐食性、機械的特性に優れたチタンまたはチタン合金(Ti-6A1-V)が多く用いられている.しかしこれらの材料の生体新和性は十分でなく、長期間の使用に対しては生体組織からの剥離といつ問題がある.そこで現在Ti-6A1-4V上に生体賞和性の高いハイドロキシアバタイト(以下HAp)セラミックスをコーティングする方法がとられている. コ-ティングには主にプラズマ溶射法R(1)が用いられるが、この方法で作成された膜は厚いため.基板の界面で剥離やクラックが生じると言われている.この界面の問題を解決するためにHApの薄膜化に関する研究が盛んに進められている。本研究では薄膜化の方法としてエキシマレーザアプレーション法(2)(8)(4)を用いた.得られた薄膜の結晶性はX線回折(以下XRD)装置によって評価し、表面形状は原子間力顕微鏡(以下AFM)で観察した.また薄膜の機械的特性(固着力)を引っ掻き試験およひ引き剥がし試験で評価した。
|
|
2.薄膜の作成
2.1.基板の前処理
基坂にはTi‐6AI4Ⅴ(10×10X1mlm,フルウチ化学(株)製)を用い、700℃,2時間,大気中で焼純した。その基板を研磨装置((株)マルトー製,高精度鏡面研磨機ML‐461)で最大高さ(Rmax)0.1μmの鏡面になるように研磨した。
|
|
2.2.レーザアフレーションによる成蝮
本研究で用いたレーザアフレーション装置の概略図を図1に示す.レーザにはArFエキシマレ-ザ(Lambda Physik LPX200,波長λ=193mm,ハルス幅γ
=20ns) を用い、このレーザ光を表面鏡およびレンスでターゲット上に集光した.夕ーゲットと基板との距離は約4cmで.ターゲット上のパワー密度は約1J/cm2で
|
|
 |
|
Fig,1.Experimental setup for HA films deposition:1-ArF
excimer laser(λ=193nm,τ=20ns);2-vacumm chamber;
3一mirrow;4-focusing lens;5一target;6一substrate holder
with heater;7-subster;8-thickness moniter;9一water
vapor(O2十(H2O+H2O2(31%)))supply unit
|
|
|
|
| -1- | -2- | -3- |
-4- | |
|
